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Beanie aus Strukturstrick mit Druck

Produktdetails

Produktinformationen "Beanie aus Strukturstrick mit Druck"

Mütze aus feinem Interlock mit leicht strukturierter Oberfläche. Dezenter Ton-in-Ton Allover-Druck mit Wald-Motiv. Mit Kante zum Umklappen. Fähnchen an der Kante. Made In Portugal. Waschbar bei 30°C.
Material
Materialzusammensetzung: 100% Baumwolle (kbA)
Zertifikate: GOTS